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Kompakte Photorelais für automatisierte Halbleitertests

Toshiba führt Hochstrom-Halbleiterrelais im Miniaturgehäuse ein, um Schaltgenauigkeit und Bestückungsdichte von Leiterplatten in Hardware-Testumgebungen zu verbessern.

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Kompakte Photorelais für automatisierte Halbleitertests

Toshiba Electronics Europe stellt die Fotorelais TLP3487 und TLP3491 vor, die für präzises Schalten und zuverlässige Signalisolierung in Halbleiter-Testsystemen entwickelt wurden. Diese Komponenten werden speziell in automatischen Testgeräten (ATE), Messinstrumenten sowie High-Speed-Logik-, Speicher- und SoC-Testern eingesetzt, um das kritische Strom- und Signal-Routing zu steuern.

Operative Herausforderungen bei der Bauteilprüfung
Halbleiter-Testsysteme arbeiten, indem sie definierte Spannungen und Ströme an einzelne Pins eines Prüflings anlegen, um dessen funktionale Integrität zu überprüfen. Dieser Prozess erfordert ein präzises und zuverlässiges Schalten der an jeden Pin angeschlossenen Strom- und Signalpfade. Halbleiterrelais mit MOSFET-Ausgängen sind Standardkomponenten für diese Aufgabe. Eine primäre technische Herausforderung ist jedoch der Leckstrom im ausgeschalteten Zustand, der die Messergebnisse verfälschen kann. Gleichzeitig erfordert das Routing von Stromversorgungen und die Steuerung von Lasten Komponenten, die hohen elektrischen Strömen standhalten können, was Ingenieure zwingt, einen Kompromiss zwischen Strombelastbarkeit und Messisolierung zu finden.

Technische Leistung und Bauteilarchitektur
Die Komponenten TLP3491 und TLP3487 erfüllen diese betrieblichen Anforderungen, indem sie einen hohen maximalen Einschaltstrom von 2,0 A mit minimalem Leckstrom im ausgeschalteten Zustand kombinieren. Durch ein optimiertes Design der MOSFET-Ausgangsstufe begrenzt der TLP3487 den Leckstrom auf 1 nA bei 40 V, während der TLP3491 den Leckstrom auf 10 nA bei 60 V beschränkt. Dieser Mechanismus stellt sicher, dass Diagnosesignale während der Testphasen sauber und isoliert bleiben. Der spezifizierte Betriebstemperaturbereich für diese Bauteile erstreckt sich von -40 °C bis +110 °C, was die Stabilität unter hohen thermischen Belastungen gewährleistet, die in dichten Testkonfigurationen üblich sind.

Hardware-Integration und Platzeffizienz
In Hochstromanwendungen kombinieren Ingenieure historisch gesehen mehrere Schaltbausteine, was naturgemäß sowohl die benötigte Leiterplattenfläche als auch den kumulativen Leckstrom im ausgeschalteten Zustand erhöht. Durch die Verwendung eines einzigen Relais, das 2,0 A verarbeiten kann, können Systementwickler redundante Komponenten eliminieren. Die Bauteile sind in einem P-SON4-Format mit den Abmessungen 3,4 mm mal 2,1 mm mal 1,3 mm verpackt. Diese Geometrie ergibt eine Grundfläche, die etwa 74 Prozent kleiner ist als die von Standard-2.54SOP4-Fotorelais und 84 Prozent kleiner als die von 2.54SOP6-Bauteilen. Dies unterstützt direkt die hohen Dichtanforderungen beim Routing in modernen automatischen Testgeräten.

Zusätzlicher Kontext
Dieser Abschnitt beschreibt technische Spezifikationen und Wettbewerbs-Benchmarking, die nicht in der ursprünglichen Pressemitteilung enthalten waren.

Im Sektor der automatischen Testgeräte ist das Solid-State-Switching stark umkämpft, mit etablierten Alternativen wie der PhotoMOS-Serie von Panasonic und den G3VM-Relaisfamilien von Omron. Das Benchmarking dieser Komponenten umfasst typischerweise die Messung des Kompromisses zwischen Laststromkapazität, Leckstrom im ausgeschalteten Zustand und physikalischer Gehäusegröße. Während Wettbewerbsprodukte extrem niedrige Leckströme in Subminiatur-SON- oder VSON-Gehäusen bieten, erforderte das Erreichen einer kontinuierlichen Nennlast von 2,0 A in der Vergangenheit den Einsatz größerer SOP4- oder SOP6-Gehäuse. Durch die Beibehaltung der 2,0-A-Spezifikation innerhalb der P-SON4-Grundfläche von 3,4 mm mal 2,1 mm bieten diese Komponenten einen messbaren Dichtevorteil für Hardware-Ingenieure, die mehrkanalige Halbleiter-Testarrays mit hohen Pin-Anzahlen entwickeln.

Bearbeitet von Aishwarya Mambet, Induportals-Redakteurin, mit Unterstützung von KI.

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